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cvd系统hr1200-110tid3f

发布时间： 2018-11-28 00:40:54 浏览次数：4482

设备简介：

化学气相沉积(cvd)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中应用阀非常广泛的用来沉积薄膜材料的技术，包括大范围的绝缘材料，以及大多数金属材料和金属合金材料。为此我们研发成套的cvd镀膜系统，适用于各大高校材料实验室、科研院所、环保科学等领域；

该cvd系统主要由采用红外加热的快速热处理炉（rtp）、气体流量控制柜及真空泵组成，升温速率可达300℃/秒。移动式加热炉膛，可使热处理后的样品直接移动至室温下。系统内置热疲劳测试功能，可根据实验工艺设置热疲劳测试参数，系统将自动运行。

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	设备特点；快速升温：采用先进的红外加热技术，能够实现极高的升温速率，确保样品能够在短时间内达到所需温度。精确控制：配备高精度温度传感器和pid控制系统，确保温度均匀性和稳定性，支持复杂的温度曲线编程。移动式加热炉膛：设计有可移动的加热炉膛，使得热处理后的样品可以直接移动至室温环境，减少冷却时间，提高实验效率。
产品型号	nbd-hr1200-110ti
工作温度	≤1100℃
加热区尺寸	200mm
升温速率	≤100℃/s
电气规格	ac 380v 15kw
气体系统（可选购）	流量计类型	浮子流量计				质量流量计
	管道示意图
	进气接口数量	2、3、4（多路可选）
	流量范围	20-250/20-800ml/min(多量程可选)				50/100/200sccm(多量程可选)
	工作压差范围	0-0.15mpa
低真空系统（可选购）	真空泵型号		nbd-1.5c		nbd-3c		nbd-4c
	抽气速率		1l/s		3l/s		4l/s
	进排气口尺寸		φ8mm宝塔接头		φ8mm宝塔接头		kf16/25
	极限压力		1000pa		100pa		10pa
	工作温度		5-40℃
	电气规格		ac220v
高真空系统（可选购）	真空泵型号		nbd-103(a)		nbd-103(b)		nbd-103(c)
	抽气速率		110l/s		600l/s		700l/s
	真空测量计		复合真空计
	极限压力		10^-3pa		10^-4pa		10^-5pa
	工作温度			5-40℃
	电气规格			ac 220v	ac 220v			ac 380v
* 支持非标定做，更多型号，欢迎来电垂询400-000-3746

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